| Title | 生物掩膜版以及在衬底上图案化的方法 |
| Author | |
| First Inventor | 叶怀宇
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| Original applicant | 南方科技大学
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| First applicant | 南方科技大学
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| Address of First applicant | 518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
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| Current applicant | 南方科技大学
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| Address of Current applicant | 518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
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| First Current Applicant | 南方科技大学
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| Address of First Current Applicant | 518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
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| Application Number | CN202110616453.7
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| Application Date | 2021-06-02
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| Open (Notice) Number | CN113363140B
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| Date Available | 2023-03-28
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| Publication Years | 2023-03-28
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| Status of Patent | 授权
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| Legal Date | 2023-03-28
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| Subtype | 授权发明
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| SUSTech Authorship | First
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| Abstract | 本申请涉及一种生物掩膜版以及在衬底上图案化的方法，属于集成电路制备技术领域。在衬底上图案化的方法，包括如下步骤：在衬底上形成光刻胶层。在光刻胶层的背离衬底的表面形成生物掩膜版。对生物掩膜版进行曝光、显影、去除生物掩膜版、刻蚀、去除光刻胶，得到图案化的衬底。其中，生物掩膜版包括磷脂双层膜和嵌入磷脂双层膜内的孔蛋白。本申请中，在衬底上进行图案化时所使用的掩膜版为生物掩膜版，其通过孔蛋白来形成图案，能够有效降低工艺成本。 |
| Other Abstract | 本申请涉及一种生物掩膜版以及在衬底上图案化的方法，属于集成电路制备技术领域。在衬底上图案化的方法，包括如下步骤：在衬底上形成光刻胶层。在光刻胶层的背离衬底的表面形成生物掩膜版。对生物掩膜版进行曝光、显影、去除生物掩膜版、刻蚀、去除光刻胶，得到图案化的衬底。其中，生物掩膜版包括磷脂双层膜和嵌入磷脂双层膜内的孔蛋白。本申请中，在衬底上进行图案化时所使用的掩膜版为生物掩膜版，其通过孔蛋白来形成图案，能够有效降低工艺成本。 |
| IPC Classification Number | H01L21/027
; G03F1/76
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| INPADOC Legal Status | （ENTRY INTO FORCE OF REQUEST FOR SUBSTANTIVE EXAMINATION）[2021-09-24][CN]
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| INPADOC Patent Family Count | 1
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| Extended Patent Family Count | 1
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| Priority date | 2021-06-02
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| Patent Agent | 付兴奇
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| Agency | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
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| URL | [Source Record] |
| Data Source | PatSnap
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| Document Type | Patent |
| Identifier | http://kc.sustech.edu.cn/handle/2SGJ60CL/522331 |
| Department | SUSTech Institute of Microelectronics 南方科技大学-香港科技大学深港微电子学院筹建办公室 |
| Recommended Citation GB/T 7714 |
叶怀宇,王少刚,高宸山,等. 生物掩膜版以及在衬底上图案化的方法[P]. 2023-03-28.
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