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Title

一种光学微腔结构、制造方法及测量方法

Alternative Title
Optical microcavity structure, manufacturing method and measuring method
Author
First Inventor
陈树明
Original applicant
南方科技大学
First applicant
南方科技大学
Address of First applicant
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
Current applicant
南方科技大学
Address of Current applicant
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
First Current Applicant
南方科技大学
Address of First Current Applicant
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
Application Number
CN201610632873.3
Application Date
2016-08-04
Open (Notice) Number
CN106352805A
Date Available
2017-01-25
Status of Patent
驳回
Legal Date
2020-04-10
Subtype
发明申请
SUSTech Authorship
First
Abstract
本发明公开了一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构、制造方法及测量方法,其中一种光学微腔结构,包括全反射层,所述全反射层承载于一衬底之上;待测薄膜层,设置于所述反射层表面;半反射膜层,设置于所述待测薄膜层表面。本申请中,通过半反射层与待测薄膜层的接触表面形成第一介质分界面,待测薄膜层与全发射膜层的接触表面形成第二介质分界面。入射光在第一介质分界面与第二介质分界面之间来回反复反射,一束光线通过第一介质分界面、第二介质分界面形成多束用以产生干涉效应的光线,使得反射谱上呈现出较明显的尖锐干涉峰,有利于在后续测量过程中,能够较准确地实现光谱拟合,提高待测薄膜厚度测量准确度。
Other Abstract
本发明公开了一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构、制造方法及测量方法,其中一种光学微腔结构,包括全反射层,所述全反射层承载于一衬底之上;待测薄膜层,设置于所述反射层表面;半反射膜层,设置于所述待测薄膜层表面。本申请中,通过半反射层与待测薄膜层的接触表面形成第一介质分界面,待测薄膜层与全发射膜层的接触表面形成第二介质分界面。入射光在第一介质分界面与第二介质分界面之间来回反复反射,一束光线通过第一介质分界面、第二介质分界面形成多束用以产生干涉效应的光线,使得反射谱上呈现出较明显的尖锐干涉峰,有利于在后续测量过程中,能够较准确地实现光谱拟合,提高待测薄膜厚度测量准确度。
CPC Classification Number
G01B11/0675
IPC Classification Number
G01B11/06
INPADOC Legal Status
(-REJECTION OF INVENTION PATENT APPLICATION AFTER PUBLICATION)[2020-04-10][CN]
INPADOC Patent Family Count
1
Extended Patent Family Count
1
Priority date
2016-08-04
Patent Agent
孟金喆 ; 胡彬
Agency
北京品源专利代理有限公司
URL[Source Record]
Data Source
PatSnap
Document TypePatent
Identifierhttp://kc.sustech.edu.cn/handle/2SGJ60CL/531984
DepartmentDepartment of Electrical and Electronic Engineering
Recommended Citation
GB/T 7714
陈树明,冯渊翔,王为高. 一种光学微腔结构、制造方法及测量方法.
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