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Title

一种二维材料纳米结构阵列加工的装置

Author
First Inventor
何洋
Original applicant
南方科技大学
First applicant
南方科技大学
Address of First applicant
518055 广东省深圳市南山区桃源街道学苑大道1088号
Current applicant
南方科技大学
Address of Current applicant
518055 广东省深圳市南山区桃源街道学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
First Current Applicant
南方科技大学
Address of First Current Applicant
518055 广东省深圳市南山区桃源街道学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
Application Number
CN202222358593.1
Application Date
2022-09-05
Open (Notice) Number
CN218620343U
Date Available
2023-03-14
Publication Years
2023-03-14
Status of Patent
授权
Legal Date
2023-03-14
Subtype
实用新型
SUSTech Authorship
First
Abstract
本实用新型公开了一种二维材料纳米结构阵列加工的装置,其中,包括加工室、充气结构、支架、第一位移工作台、第二位移工作台、模板和电场组件,充气结构与加工室连通,用于输入气体反应介质;支架设于加工室内,支架上形成有相互垂直的水平支撑台面和竖直支撑台面;第一位移工作台设置在水平支撑台面上,用于承载二维材料样品;第二位移工作台设置在竖直支撑台面上;模板设于第二位移工作台上朝向二维材料样品的一侧,用于转印纳米结构阵列至二维材料样品上;模板上设有凸起结构,凸起结构用于诱导二维材料样品的表面氧化;电场组件一端与第一位移工作台连接,另一端与模板连接,用于施加电场。本申请提高了跨尺度加工的可操作性。
Other Abstract
本实用新型公开了一种二维材料纳米结构阵列加工的装置,其中,包括加工室、充气结构、支架、第一位移工作台、第二位移工作台、模板和电场组件,充气结构与加工室连通,用于输入气体反应介质;支架设于加工室内,支架上形成有相互垂直的水平支撑台面和竖直支撑台面;第一位移工作台设置在水平支撑台面上,用于承载二维材料样品;第二位移工作台设置在竖直支撑台面上;模板设于第二位移工作台上朝向二维材料样品的一侧,用于转印纳米结构阵列至二维材料样品上;模板上设有凸起结构,凸起结构用于诱导二维材料样品的表面氧化;电场组件一端与第一位移工作台连接,另一端与模板连接,用于施加电场。本申请提高了跨尺度加工的可操作性。
IPC Classification Number
B82B3/00 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00
INPADOC Legal Status
(+PATENT GRANT)[2023-03-14][CN]
INPADOC Patent Family Count
1
Extended Patent Family Count
1
Priority date
2022-09-05
Patent Agent
秦胜军
Agency
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)
URL[Source Record]
Data Source
PatSnap
Document TypePatent
Identifierhttp://kc.sustech.edu.cn/handle/2SGJ60CL/534158
DepartmentDepartment of Mechanics and Aerospace Engineering
Recommended Citation
GB/T 7714
何洋,章亮炽,胡佳浩. 一种二维材料纳米结构阵列加工的装置[P]. 2023-03-14.
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